ホロン【JP:E02353】沿革
時価総額
PER
半導体検査装置の有力企業。電子ビームによる微小寸法測定装置を展開し、マスク用装置が主力。チャージアップ・コンタミネーション抑制技術、収差補正技術を保有。親会社は計測機器大手のエー・アンド・デイ。
| 2018年06月 | 株式会社エー・アンド・デイの連結子会社となる |
| 2017年01月 | デバイス用マスクCD-SEMをモデルチェンジし、ZXを発表・発売開始 |
| 2017年01月 | フォトマスク用DR-SEMの高機能版LEXa-10HRを発表 |
| 2016年03月 | 品質マネジメントシステムISO9001認証取得 |
| 2015年12月 | ウエハ用CD-SEM ESPA-3000シリーズを開発・発表 |
| 2014年05月 | NEDO助成事業に採択「NILナノパターンの観察計測ができる高分解能CD-SEMの開発」 |
| 2013年11月 | EDS分析のLEXa-7を発表 |
| 2013年05月 | NEDO助成事業に採択「大気開放型SEMを組み込んだ大型ロール検査装置の開発」 |
| 2011年02月 | nano tech大賞2011 微細加工技術部門賞を受賞（Roll-SEM） |
| 2010年12月 | ロールモールド評価用SEM（Roll-SEM）を開発 |
| 2010年11月 | EMUシリーズをモデルチェンジし、Z7を発表 |
| 2009年08月 | NEDO助成事業に２件採択「電子ビーム式次世代パターン高速検査装置の開発」「シームレスモールドステッパー製作とその実デバイス量産性能評価」 |
| 2009年07月 | 本社を東京都新宿区から埼玉県所沢市に移転 |
| 2009年01月 | マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-270Aを開発・発表 |
| 2006年11月 | LED(発光ダイオード)生産用パターン転写装置電子スタンパーEBLITHOを開発・発表 |
| 2005年08月 | マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-270を開発・発表 |
| 2005年02月 | 株式会社ジャスダック証券取引所に上場(現 東京証券取引所JASDAQ) |
| 2004年10月 | マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-250を開発・発表 |
| 2004年04月 | 韓国支店を開設 |
| 2003年04月 | EMU-220A、海外に出荷開始 |
| 2003年04月 | 本社ビル移転(東京都新宿区は変わらず) |
| 2002年09月 | マスク用電子ビーム微小寸法測定装置、海外向けバージョンとしてEMU-220Aを発表 |
| 2000年12月 | マスク用電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、EMU-220、-330を発表 |
| 1999年12月 | 磁気ヘッド形状測定装置EMR-100を完成 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-71を発表 |
| 1999年01月 | EMU-200を海外に出荷開始 |
| 1998年12月 | マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-200、-300を開発・発表 ステンシルマスク検査技術(特許)を確立、発表 |
| 1997年12月 | 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-61を発表 |
| 1996年03月 | テクニカルセンターを狛江市から埼玉県所沢市に新設・移転 |
| 1995年12月 | 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-51を発表 |
| 1992年09月 | 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-31を発表 |
| 1989年12月 | 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-21を発表 |
| 1986年10月 | 電子ビーム微小寸法測定装置(ESPA-11)を開発・発表 |
| 1985年11月 | 東京都狛江市にテクニカルセンターを設立 |
| 1985年05月 | 東京都新宿区に㈱ホロンを設立 資本金33,000千円 |