レーザーテックJP:6920
時価総額
¥2.5兆
PER
39.8倍
光応用技術を用いた半導体検査・測定装置の有力企業。高精度な光学式検査装置と検査用ソフトを展開。設計・製造は本社で、販売とサービスは北米・欧州・韓国・台湾・中国・シンガポール・マレーシアの連結子会社6社で展開。
| 2023年07月 | 新研究開発拠点「Lasertec Innovation Park（通称：InnoPa）」の稼働を開始 |
| 2022年04月 | 東京証券取引所の市場区分の見直しにより、市場第一部からプライム市場に移行 |
| 2019年11月 | Lasertec Singapore Pte. Ltd.（現連結子会社）をシンガポールに設立 |
| 2019年09月 | 世界で初めてEUV光(波長13.5nm)を用いた「アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置」を開発 |
| 2017年06月 | Lasertec China Co., Ltd.（Lasertec Taiwan, Inc.の100%子会社）を中国上海市に設立 |
| 2017年04月 | 世界で初めてEUV光(波長13.5nm)を用いた「EUVマスクブランクス欠陥検査/レビュー装置」を開発 |
| 2013年03月 | 東京証券取引所市場第一部銘柄に指定を受ける |
| 2012年03月 | 東京証券取引所市場第二部に株式を上場 |
| 2010年06月 | Lasertec Taiwan, Inc.（現連結子会社）を台湾新竹県竹北市に設立 |
| 2009年05月 | 太陽電池の変換効率分布を可視化する「太陽電池変換効率分布測定機」を開発 |
| 2008年03月 | 神奈川県横浜市港北区新横浜へ本社を移転 |
| 2004年12月 | ジャスダック証券取引所（現 東京証券取引所JASDAQ（スタンダード））に株式を上場（2012年５月上場廃止） |
| 2001年02月 | Lasertec Korea Corp.（現連結子会社）を韓国ソウル市に設立 |
| 2000年02月 | フォトマスクの「マスクブランクス欠陥検査装置」を開発 |
| 1998年08月 | 半導体ウェハ上の欠陥をマルチビームレーザーコンフォーカル光学系を利用して検査する「ウェハ欠陥検査装置」を開発 |
| 1996年12月 | フォトマスクに装着されているペリクル及びフォトマスクの裏面に付着した異物を検査する「ペリクル面異物検査装置」を開発 |
| 1994年11月 | 位相シフトマスクの位相シフト量を測定する「位相シフト量測定装置」を開発 |
| 1993年07月 | LCD（液晶ディスプレイ）の突起欠陥等を検査し、修正する「カラーフィルター欠陥検査装置」及び「カラーフィルター欠陥修正装置」を開発 |
| 1990年12月 | 日本証券業協会に店頭売買銘柄として株式を登録 |
| 1989年07月 | ㈱レーザーテック研究所及びレーザーテック販売㈱を吸収合併 |
| 1987年06月 | 子会社レーザーテック販売㈱を東京都港区に設立 |
| 1986年12月 | Lasertec U.S.A., Inc.（現連結子会社）を米国カリフォルニア州サンノゼ市に設立 |
| 1986年07月 | 子会社㈱レーザーテック研究所を東京都港区に設立 |
| 1986年06月 | 商号を「レーザーテック株式会社」に変更 |
| 1985年06月 | 「カラーレーザー顕微鏡」を開発 |
| 1980年04月 | 神奈川県横浜市港北区綱島東へ本社を移転 |
| 1976年10月 | LSIのマスクパタン欠陥を自動検査する「フォトマスク欠陥検査装置」を世界で初めて開発 |
| 1975年04月 | 「顕微鏡自動焦点装置」を開発 |
| 1975年02月 | LSIのフォトマスクのピンホールを発見する「フォトマスク・ピンホール検査装置」を開発 |
| 1971年05月 | 磁気テープ走行中のテンションを測定する「テンションアナライザー」を開発 |
| 1965年11月 | 神奈川県川崎市北加瀬へ本社を移転 |
| 1963年08月 | 神奈川県川崎市木月へ本社を移転 |
| 1962年08月 | 資本金1,000千円で日本自動制御㈱を設立 |
| 1960年07月 | 東京都目黒区において当社の前身である㈲東京ITV研究所を設立 X線テレビジョンカメラの開発、設計、製造を開始 |