テクセンドフォトマスク【JP:429A】沿革
時価総額
PER
半導体用フォトマスク製造の最大手。EUVフォトマスクやナノインプリント用モールドを展開。DuPont買収、IBMと2nm向けEUV共同開発契約、2024年の外販市場シェア37.8％。アジア5工場・米国1工場・欧州2工場の計8工場でグローバル展開。
| 2024年11月 | 商号をテクセンドフォトマスク株式会社に変更 |
| 2023年07月 | 本社を汐留シティセンターに移転 |
| 2022年04月 | 株式会社トッパンフォトマスク(現：テクセンドフォトマスク株式会社)が凸版印刷株式会社よりフォトマスク事業を承継 当社株式の49.9％を凸版印刷株式会社からインテグラルグループが取得 |
| 2019年08月 | Toppan Photomasks Round Rock, Inc.(現：Tekscend Photomask Round Rock Inc.)を設立 GlobalFoundriesの内製マスクライン生産設備を購入、移設し、米国内のGlobalFoundriesウェハ工場向けにフォトマスクを供給 |
| 2015年04月 | 上海凸版光掩模有限公司が新工場を建設 製造ラインを拡充しフォトマスクの生産能力を増強 |
| 2015年03月 | 中華映管股份有限公司が保有する中華凸版電子股份有限公司(現：中華科盛德光罩股份有限公司)の株式を取得し、子会社化 |
| 2014年05月 | 中国科学院上海微系統与信息技術研究所が保有する上海凸版光掩模有限公司(現：上海徐匯科盛徳半導体有限公司)の持分28.5％を買取り、完全子会社化 |
| 2005年04月 | DuPont Photomasks, Inc.の株式取得に関する手続き完了。Toppan Photomasks, Inc.(現：Tekscend Photomask US Inc.)が始動 |
| 2003年02月 | 朝霞第三工場竣工 |
| 1998年08月 | 滋賀工場でフォトマスク新棟が竣工 |
| 1997年03月 | 中華映管股份有限公司、揚博科技股分有限公司と合弁で、中華凸版電子股份有限公司(現：中華科盛德光罩股份有限公司)を設立 |
| 1986年02月 | 朝霞精密電子第二工場を竣工 |
| 1974年12月 | 朝霞精密電子第一工場を竣工 最新鋭設備と高性能クリーンルームを完備 |
| 1970年09月 | 滋賀精密工場竣工 |
| 1968年03月 | 朝霞工場精密部品棟にクリーンルームが完成 シリコントランジスタマスクの量産を開始 |
| 1961年01月 | シリコントランジスタ製造用フォトマスクの試作成功 |