ニューフレアテクノロジーJP:E02119

時価総額
PER
半導体製造装置の有力企業。電子ビームマスク描画装置、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の3製品を中心に展開。LSI製造工程における微細回路パターン描画や高品質ウェハ製造技術が特徴。パワー半導体需要拡大を背景に事業展開。
期末日株主資本 (百万円)前年比 (%)
2019年3月31日72,351+9.37%
2018年3月31日66,153+8.90%
2017年3月31日60,746+15.61%
2016年3月31日52,545+17.30%
2015年3月31日44,794+22.43%
2014年3月31日36,587+41.51%
2013年3月31日25,855+44.17%
2012年3月31日17,934