ニューフレアテクノロジーJP:E02119

時価総額
PER
半導体製造装置の有力企業。電子ビームマスク描画装置、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の3製品を中心に展開。LSI製造工程における微細回路パターン描画や高品質ウェハ製造技術が特徴。パワー半導体需要拡大を背景に事業展開。
期末日一株あたり利益 ()前年比 (%)
2019年3月31日686.4+20.31%
2018年3月31日570.5-29.43%
2017年3月31日808.5+4.87%
2016年3月31日770.9-1.82%
2015年3月31日785.2-19.41%
2014年3月31日974.4+31.66%
2013年3月31日740.1-99.00%
2012年3月31日73,833.4+515.22%
2011年3月31日12,001.1+183.22%
2010年3月31日4,237.5