ニューフレアテクノロジーJP:E02119

時価総額
PER
半導体製造装置の有力企業。電子ビームマスク描画装置、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の3製品を中心に展開。LSI製造工程における微細回路パターン描画や高品質ウェハ製造技術が特徴。パワー半導体需要拡大を背景に事業展開。
期末日純利益 (百万円)前年比 (%)
2019年3月31日8,236+20.31%
2018年3月31日6,846-29.43%
2017年3月31日9,701+4.86%
2016年3月31日9,251-1.82%
2015年3月31日9,423-19.41%
2014年3月31日11,692+31.66%
2013年3月31日8,881+0.24%
2012年3月31日8,860+515.22%
2011年3月31日1,440+238.75%
2010年3月31日425