ニューフレアテクノロジーJP:E02119

時価総額
PER
半導体製造装置の有力企業。電子ビームマスク描画装置、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の3製品を中心に展開。LSI製造工程における微細回路パターン描画や高品質ウェハ製造技術が特徴。パワー半導体需要拡大を背景に事業展開。
期末日経常(税引前)利益 (百万円)前年比 (%)
2019年3月31日11,983+29.88%
2018年3月31日9,227-30.85%
2017年3月31日13,343+3.83%
2016年3月31日12,851+5.42%
2015年3月31日12,191-30.83%
2014年3月31日17,625+17.19%
2013年3月31日15,040+8.17%
2012年3月31日13,903+432.04%
2011年3月31日2,613+422.84%
2010年3月31日500