サムコ【JP:6387】沿革
時価総額
¥480.2億
PER
27.9倍
半導体等電子部品製造装置の有力企業。LS-CVDやALDのCVD装置、トルネードICPエッチング、Aqua Plasma洗浄装置を展開。2015年12月のALD販売開始、2016年9月のAqua Plasma販売開始。台湾を中心に海外代理店を通じた保守サービス展開。
| 2025年09月 | 京都市伏見区に先端技術開発棟を開設 |
| 2022年04月 | 東京証券取引所の市場区分の見直しにより、東京証券取引所市場第一部からプライム市場へ移行 |
| 2022年03月 | 第二研究開発棟内にナノ薄膜開発センターを立ち上げ（2024年９月に技術開発統括部プロセス開発２部に統合） |
| 2021年12月 | 電子デバイス製造向けクラスターツールシステム「クラスターＨTM」の販売を開始 |
| 2021年01月 | 新型コロナウイルス不活化技術を完成 |
| 2020年07月 | 第二生産技術棟内にＣＶＤ装置のデモルームを開設 |
| 2018年12月 | ドライエッチング装置ＲＩＥ－２００ｉＰＮの開発、販売を開始 |
| 2016年09月 | Aqua Plasmaを用いたプラズマ洗浄装置ＡＱ－２０００の開発、販売を開始 |
| 2016年08月 | マレーシアにマレーシア事務所を開設 |
| 2016年06月 | 第二生産技術棟（京都市伏見区）が完成 |
| 2015年12月 | 電子デバイス向け原子層堆積装置ＡＬ－１の開発、販売を開始 |
| 2015年09月 | 公募増資により資本金を1,663,687千円に増資 |
| 2014年05月 | リヒテンシュタイン公国UCP Processing Ltd.を子会社化（samco-ucp AGに社名変更） |
| 2014年01月 | 東京証券取引所市場第二部から同第一部銘柄に指定 |
| 2013年11月 | ＭＥＭＳ向け本格量産用ドライエッチング装置ＲＩＥ－８００ⅰＰＢＣの開発、販売を開始 |
| 2013年10月 | ＳｉＣパワーデバイス向け本格量産用ドライエッチング装置ＲＩＥ－６００ⅰＰＣの開発、販売を開始 |
| 2013年07月 | 東京証券取引所ＪＡＳＤＡＱ（スタンダード）から市場第二部へ市場変更 |
| 2010年09月 | 中国北京市に北京事務所を開設 |
| 2010年08月 | 米国ノースカロライナ州に米国東部事務所を開設（2014年５月にニューヨーク州へ移転、2017年１月にニュージャージー州へ移転） |
| 2010年04月 | ジャスダック証券取引所と大阪証券取引所の合併に伴い、大阪証券取引所ＪＡＳＤＡＱ市場（2013年７月より東京証券取引所ＪＡＳＤＡＱ（スタンダード））に上場 |
| 2009年01月 | 「莎姆克股份有限公司」が営業を開始 |
| 2008年10月 | 台湾に保守サービスのための現地法人「莎姆克股份有限公司」を設立 |
| 2008年03月 | 京都市伏見区に第二研究開発棟を開設 |
| 2006年09月 | 中国清華大学とナノ加工技術の共同研究で調印 |
| 2006年03月 | 製品サービスセンターを新設 |
| 2005年09月 | 英国ケンブリッジ大学との共同開発「強誘電体ナノチューブの量産技術」を英企業に技術供与 |
| 2004年12月 | 株式会社サムコインターナショナル研究所からサムコ 株式会社へ社名を変更 |
| 2004年12月 | 株式売買単位を1,000株から100株に変更 |
| 2004年12月 | 日本証券業協会への店頭登録を取消し、ジャスダック証券取引所に株式を上場 |
| 2004年11月 | 中国上海市に上海事務所を開設 |
| 2003年12月 | (独)ロバート・ボッシュ社よりシリコンの高速ディープエッチング技術を導入 |
| 2002年07月 | 生産技術研究棟（京都市伏見区）の改修工事完了 |
| 2001年07月 | 台湾新竹市に台湾事務所を開設（2009年１月に閉鎖） |
| 2001年05月 | 日本証券業協会に株式を店頭上場 公募増資により資本金を1,213,787千円に増資 |
| 1999年07月 | サムコエンジニアリング株式会社より、サービス部門の営業を譲受け |
| 1997年11月 | キリンビール株式会社と共同で、プラスチックボトルにＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）膜を形成する技術を開発 |
| 1995年07月 | 薄膜技術を使った特定フロン無公害化技術の基本技術を開発 |
| 1993年09月 | 愛知県愛知郡長久手町に東海営業所（現東海支店、2020年１月に名古屋市へ移転）を開設 |
| 1993年02月 | 茨城県土浦市につくば出張所（現つくば営業所）を開設 |
| 1991年03月 | 京都市伏見区に研究開発センターを開設 |
| 1987年02月 | 米国カリフォルニア州にオプトフィルムス研究所を開設 |
| 1985年06月 | 京都市伏見区竹田田中宮町33番地（現藁屋町36番地）に本社を移転 |
| 1984年07月 | 東京都品川区に東京出張所（現東日本営業部）を開設 |
| 1980年07月 | 国産初のプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置の開発、販売を開始 |
| 1979年09月 | 半導体製造装置の製造及び販売を目的として株式会社サムコインターナショナル研究所を設立 |