日立ハイテクJP:E02617沿革

時価総額
PER
科学・医用機器や半導体製造装置の有力企業。分析計測機器、電子顕微鏡、エッチング装置、リチウムイオン電池組立システムなど幅広い製品を展開。科学・医用システム、電子デバイスシステム、産業システム、先端産業部材の4セグメントで事業展開。子会社41社・関連会社5社で構成。
2019年01月Applied Physics Technologies Inc.の全株式を取得し、子会社化
2018年06月Hitachi High-Tech Amata Smart Services Co.,Ltd.を設立
2018年05月Smart Factory & Services Holdings (Thailand) Co.,Ltd.を設立
2017年07月Oxford Instruments plcの子会社Materials Analysis Ltd.(Hitachi High-Tech Analytical Science Ltd.に商号変更)他4社の全株式を取得し、子会社化
2016年09月㈱日立ハイテク九州を設立
2015年09月㈱日立ハイテクインスツルメンツを吸収合併
2015年03月㈱日立ハイテクインスツルメンツとの共同新設分割により、ファスフォードテクロノジ㈱を設立して両社の半導体後工程事業を承継させ、同社の全発行済株式を㈱TYホールディングスに譲渡
2014年06月Hitachi High-Tech AW Cryo, Inc.を設立
2014年04月Hitachi High-Technologies Mexico S.A. de C.V.を設立
2014年01月Hitachi High-Technologies RUS Limited Liability Companyを設立
2013年10月㈱日立ハイテクサイエンスが、当社の分析装置事業の設計及び国内販売機能を吸収分割承継
2013年10月㈱日立ハイテクコントロールシステムズが、㈱日立ハイテクサイエンス、㈱日立ハイテクソリューションズを承継会社とする吸収分割、㈱日立ハイテクマニファクチャ&サービスを存続会社とする合併を行い、解散
2013年04月ファインテックシステム事業統括本部の全事業を㈱日立ハイテクエンジニアリングサービスに譲渡し、同社は㈱日立ハイテクファインシステムズに商号変更
2013年04月Chorus Call Asia㈱を設立
Hitachi High-Technologies India Private Limitedを設立
2013年01月エスアイアイ・ナノテクノロジー㈱(㈱日立ハイテクサイエンスに商号変更)の全株式を取得し、他3社を子会社化
2012年04月㈱日立ハイテクトレーディングと㈱日立ハイテクソリューションズが㈱日立ハイテクトレーディングを存続会社として合併し、㈱日立ハイテクソリューションズに商号変更
2011年09月PT. Hitachi High-Technologies Indonesiaを設立
2011年03月日立高新技術(上海)国際貿易有限公司が日立高科技貿易(上海)有限公司を吸収合併
2010年04月㈱日立ハイテクインスツルメンツが、㈱ルネサス東日本セミコンダクタの電子装置事業及びこれに付随する事業を吸収分割承継
2007年06月日立ハイテクデーイーテクノロジー㈱と㈱日立ハイテクインスツルメンツサービスが合併し、㈱日立ハイテクエンジニアリングサービスに商号変更(2013年4月㈱日立ハイテクファインシステムズに商号変更)
2007年04月㈱日立ハイテクサイエンスシステムズを吸収合併
2006年04月日立ハイテク電子エンジニアリング㈱を吸収合併
2005年09月日立先端科技股份有限公司を設立
2005年05月日立高科技貿易(上海)有限公司を設立
2005年04月㈱日製サイエンスを吸収合併
2005年04月Hitachi High-Technologies Korea Co.,Ltd.を設立
2004年07月計測テクノロジー㈱と日立那珂インスツルメンツ㈱が合併し、㈱日立ハイテクマニファクチャ&サービスに商号変更
2004年04月日製エンジニアリング㈱と㈱日製エレクトロニクスが合併し、㈱日立ハイテクトレーディングに商号変更(2012年4月㈱日立ハイテクソリューションズに商号変更)
2004年03月日立電子エンジニアリング㈱(2004年4月日立ハイテク電子エンジニアリング㈱に商号変更)の全株式を取得し、他4社を子会社化
2003年06月商法特例法に定める委員会等設置会社に移行
2003年04月三洋ハイテクノロジー㈱と三洋ハイテクサービス㈱の全株式を取得し、それぞれ㈱日立ハイテクインスツルメンツ及び㈱日立ハイテクインスツルメンツサービスに商号変更
2002年04月Hitachi High Technologies America, Inc.を設立(アメリカ日製産業Ltd.、日立インスツルメンツInc.は合併により消滅、H.H.T.A. Semiconductor Equipment Israel, Ltd.他2社を子会社化)
2002年03月ギーゼッケ・アンド・デブリエント㈱を設立
2002年01月日製産業貿易(深圳)有限公司を設立(2003年4月日立高新技術(深圳)貿易有限公司に商号変更)
2001年10月㈱日立製作所との吸収分割に伴い、商号を㈱日立ハイテクノロジーズに変更、㈱日立サイエンスシステムズ(2006年4月㈱日立ハイテクサイエンスシステムズに商号変更)、日立那珂エレクトロニクス㈱(2006年4月㈱日立ハイテクコントロールシステムズに商号変更)、那珂インスツルメンツ㈱(2003年6月日立那珂インスツルメンツ㈱に商号変更)他4社を子会社化
1998年01月マレーシア日製産業IPC Sdn. Bhd.を設立(2002年4月Hitachi High-Technologies IPC
(Malaysia) Sdn.Bhd.に商号変更)
1994年10月上海日製産業有限公司を設立(2002年5月日立高新技術(上海)国際貿易有限公司に商号変更)
1994年01月タイランド日製産業Co.,Ltd.を設立(2002年4月Hitachi High-Technologies(Thailand)Ltd.に商号変更)
1993年04月㈱日製サイエンスを設立
1987年10月日製エンジニアリング㈱を設立
1987年04月日製サービス㈱を設立(2006年4月㈱日立ハイテクサポートに商号変更)
1986年03月本店所在地を東京都港区西新橋一丁目に移転
1983年09月東京証券取引所、大阪証券取引所第一部に上場(2013年7月両現物市場の統合に伴い、大阪証券取引所第一部は東京証券取引所第一部に統合)
日製ソフトウェア㈱を設立(2004年9月㈱日立ハイテクソリューションズに商号変更)
1980年04月カナダ日製産業Inc.を設立(2002年4月Hitachi High-Technologies Canada, Inc.に商号変更)
1973年07月㈱日製エレクトロニクスを設立
1972年10月大阪証券取引所第二部に上場
1972年05月ブラジル日製産業Ltda.を設立(2002年4月Hitachi High-Technologies do Brasil Ltda.に商号変更)
1972年04月日製石油販売㈱を設立(1989年10月㈱日製メックスに商号変更し、その後2006年7月㈱日立ハイテクマテリアルズに商号変更)
1972年03月シンガポール出張所を設置(1973年4月シンガポール日製産業Pte.Ltd.として独立、2002年4月Hitachi High-Technologies (Singapore) Pte.Ltd.に商号変更)
1971年10月東京証券取引所第二部に上場
1965年04月日立計測器サービス㈱を設立(2006年7月㈱日立ハイテクフィールディングに商号変更)
1964年03月本店所在地を東京都港区西新橋二丁目に移転
1964年02月香港駐在所設置(支店を経て1995年4月日製産業香港有限公司として独立、2002年4月日立高科技香港有限公司に商号変更)
1960年07月デュッセルドルフ出張所を設置(1964年4月ドイツ日製産業G.m.b.H.として独立、2002年4月Hitachi High-Technologies Europe GmbHに商号変更)
1960年05月ニューヨーク出張所を設置(支店を経て1969年4月アメリカ日製産業Ltd.として独立)
1958年01月本店所在地を東京都千代田区に移転
1953年01月本店所在地を東京都港区に移転
1947年10月日製産業株式会社に商号変更
1947年04月資本金195千円をもって、株式会社日之出商会として、東京都中央区に設立