トリケミカル研究所JP:4369
時価総額
¥843.7億
PER
17.6倍
半導体製造用高純度化学化合物の開発・製造・販売を行い、CVD材料やドライエッチング材料、拡散材料を提供する事業。
| 2025年03月 | 山梨県南アルプス市に南アルプス事業所を建設 |
| 2024年08月 | 中華人民共和国上海市に100％子会社の上海特李化学科技有限公司を設立 |
| 2022年07月 | 当社にて「ISO45001」を取得 |
| 2022年04月 | 東京証券取引所の市場区分見直しに伴い、東京証券取引所プライム市場に株式を上場 |
| 2020年09月 | 山梨県上野原市にAnnex棟を建設 |
| 2020年07月 | 三化電子材料股份有限公司が台湾苗栗縣銅鑼郷に工場を建設 |
| 2018年01月 | 東京証券取引所市場第一部へ市場変更 |
| 2017年03月 | 台湾新竹縣竹北市(後に苗栗縣銅鑼郷に移転)に100％子会社の三化電子材料股份有限公司を設立 |
| 2016年07月 | 大韓民国世宗特別自治市に同国における半導体用次世代材料の開発、製造及び販売の目的で、SK Materials Co., Ltd.(現SK Inc.)との合弁で関連会社SK Tri Chem Co., Ltd.を設立 |
| 2013年12月 | 大韓民国城南市(後に水原市に移転)に韓国事務所を開設 |
| 2013年07月 | 東京証券取引所と大阪証券取引所の現物市場の統合に伴い、東京証券取引所ＪＡＳＤＡＱ（スタンダード）に株式を上場 |
| 2011年11月 | 上野原第二工場にて「ISO9001」を取得 |
| 2011年06月 | 上野原第二工場にて「ISO14001」を取得 |
| 2010年10月 | 大阪証券取引所ヘラクレス市場、同取引所ＪＡＳＤＡＱ市場及び同取引所ＮＥＯ市場の各市場の統合に伴い、大阪証券取引所ＪＡＳＤＡＱ（スタンダード）に株式を上場 |
| 2008年11月 | 山梨県上野原市に上野原第二工場を建設 |
| 2008年07月 | 本社工場にて「ISO14001」を取得 |
| 2007年08月 | ㈱大阪証券取引所 ニッポン・ニュー・マーケット―「ヘラクレス」に上場 |
| 2000年10月 | 本社工場にて「ISO9001」を取得 |
| 1994年11月 | 本社工場を山梨県北都留郡上野原町(現山梨県上野原市)に移転 |
| 1994年01月 | 東京都江東区(後に東京都港区に移転)に臭化水素製造の目的でテイサン㈱(現日本エア・リキード(同))との合弁で関連会社㈱エッチ・ビー・アールを設立 |
| 1984年09月 | 化合物半導体材料としての高純度三塩化砒素の供給を開始 |
| 1984年03月 | 本社工場を神奈川県愛甲郡愛川町に移転 |
| 1983年02月 | 三塩化硼素の量産化に成功、半導体用エッチング材料として半導体業界への供給を開始 |
| 1982年08月 | 光ファイバー用硼素原材料としての三塩化硼素の合成に成功、供給を開始 |
| 1979年12月 | 光ファイバー用原材料における水分（OH基）の除去に成功、供給を開始 |
| 1978年12月 | 無機化学工業製品の製造・精製・販売を目的として神奈川県相模原市(現神奈川県相模原市中央区)に㈱トリケミカル研究所(資本金2,500千円)を設立 |